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J-GLOBAL ID：200903006529322775

マルチビーム作画・記録装置

Inventor： 奥山 隆志 ,  金馬 利文 ,  三好 民博 ,  丸山 晃一 ,  中村 哲也
Applicant, Patent owner： 旭光学工業株式会社
Agent (1)： 松岡 修平
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995142749
Publication number (International publication number)：1996310194
Application date： May. 17, 1995
Publication date： Nov. 26, 1996
Summary：

【要約】【目的】 機械的な機構によるビームの偏向を行うことなく、高精度・高精細な画像を高速に記録することのできる、マルチビーム作画・記録装置をを提供すること。【構成】 2次元の所定のパターンで基板に取り付けられた複数のLED(42)と、前記複数のLEDに1対1で対応する複数の開口が前記所定のパターンで形成されたアパーチャ板(43)と、前記複数のLEDから射出され前記複数の開口をそれぞれ透過した光を結像させる縮小光学系(44、45)と、前記基板と前記アパーチャ板との間に設けられ、前記複数のLEDから射出したビームが前記開口に向かうように前記複数のLEDの向きを規制しつつ保持する保持部材(46)とを有する構成とした。

Claim (excerpt)：

2次元の所定のパターンで基板に取り付けられた複数の発光ダイオードと、前記複数の発光ダイオードに1対1で対応する複数の開口が前記所定のパターンで形成されたアパーチャ板と、前記複数の発光ダイオードから射出され前記複数の開口をそれぞれ透過した光を結像させる縮小光学系と、前記基板と前記アパーチャ板との間に設けられ、前記複数の発光ダイオードから射出したビームが前記開口に向かうように前記複数の発光ダイオードの向きを規制しつつ保持する保持部材と、を有するマルチビーム作画・記録装置。

IPC (4)：

B43L 13/00 ,  B41J 2/44 ,  B41J 2/45 ,  B41J 2/455

FI (2)：

B43L 13/00 K ,  B41J 3/21 L

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 光源ユニット
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-223403   Applicant：大日本スクリーン製造株式会社
• 画像形成装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-189714   Applicant：京セラ株式会社