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J-GLOBAL ID:200903006542390585
半導体レーザ
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
杉浦 正知
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1996140766
Publication number (International publication number):1997307183
Application date: May. 10, 1996
Publication date: Nov. 28, 1997
Summary:
【要約】【課題】 所望の発振波長を得るための、歪量子井戸活性層の量子井戸層の歪量、量子井戸層の厚さおよび基板のオフ角度の自由度が大きいAlGaInP系半導体レーザを提供する。【解決手段】 歪量子井戸活性層を用いたAlGaInP系半導体レーザにおいて、その歪量子井戸活性層の量子井戸層をGax In1-x Asy P1-y により構成し、障壁層をAlGaInPにより構成する。量子井戸層を構成するGaxIn1-x Asy P1-y のAs組成比yは、0以上0.15以下、より好ましくは0以上0.11以下とする。
Claim (excerpt):
歪量子井戸構造を有する活性層をn型AlGaInPクラッド層とp型AlGaInPクラッド層とによりはさんだ構造を有する半導体レーザにおいて、上記活性層の量子井戸層がGaInAsPからなり、かつ、上記活性層の障壁層がAlGaInPからなることを特徴とする半導体レーザ。
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)
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半導体レーザ
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-212437
Applicant:富士通株式会社
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半導体レーザ素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-229729
Applicant:株式会社日立製作所
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