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J-GLOBAL ID：200903006571077462
処理装置
Inventor：
Applicant, Patent owner：
,
Agent (1)：
中本 菊彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991351193
Publication number (International publication number)：1993166716
Application date： Dec. 13, 1991
Publication date： Jul. 02, 1993
Summary：
【要約】【目的】処理液供給ノズルに付着する処理液及びパーティクルを自己洗浄し、被処理体への処理液の均一被着と被処理体の汚染防止を図る。【構成】処理液供給ノズル21の先端側に、板状の中央突出部30と、この中央突出部30の両側に段状に連設する側壁部31とを形成する。側壁部31の中央突出部30と対向する面側に多数のノズル孔29を適宜間隔をおいて形成する。これにより、処理液供給ノズル21中の現像液Lをノズル孔29を介して中央突出部30の側面に流して中央突出部30側面に付着する処理液及びパーティクルを洗浄除去することができる。
Claim (excerpt)：
被処理体の表面に処理液を滴下するノズル孔を配列する処理液供給ノズルを具備する処理装置において、上記処理液供給ノズルの先端側に、突出部と、この突出部の側面に段状に連設する側壁部とを形成し、上記突出部と側壁部の対向する面側における少なくとも一方に、適宜間隔をおいて上記ノズル孔を形成してなることを特徴とする処理装置。
FI (2)：
H01L 21/30 361 L
, H01L 21/30 361 E
