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J-GLOBAL ID：200903006608354160

キノリル基を有するジアリールエテン系化合物

Inventor： 椛澤 誠 ,  石川 篤 ,  藤野 泰光 ,  堀川 幸雄 ,  入江 正浩
Applicant, Patent owner： 鐘紡株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994151454
Publication number (International publication number)：1995330762
Application date： Jun. 08, 1994
Publication date： Dec. 19, 1995
Summary：

【要約】 (修正有)【構成】一般式にて示されるジアリールエテン系化合物。(式中、nは2〜5の整数,R1 、R2 、R3 、R4 はアルキル基,R5 はメトキシフェニル基、シアノフェニル基、ナフチル基、又はジアルキルアミノフェニル基のいずれかを表す。)【効果】上記化合物は熱安定性、耐湿性、感度、溶媒への溶解性に優れ、かつ着消色の繰り返し耐久性が良好なフォトクロミック性を有し、性能の優れた可逆的光記録材料などに有効に利用することが出来る。

Claim (excerpt)：

下記一般式化1にて示されるジアリールエテン系化合物。【化1】(但し、式中nは2〜5の整数,Aは下記一般式【化2】Bは下記一般式【化3】R1 ,R2 ,R3 ,R4 はアルキル基,R5 は下記一般式【化4】【化5】【化6】【化7】で示されるメトキシフェニル基,シアノフェニル基,ナフチル基,又は、ジアルキルアミノフェニル基のいずれかを表す。)

IPC (4)：

C07D409/06 215 ,  C09K 9/02 ,  G03C 1/73 503 ,  G11B 7/24 516