Pat
J-GLOBAL ID:200903006618578910
研磨剤スラリ-
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998183259
Publication number (International publication number):2000001666
Application date: Jun. 16, 1998
Publication date: Jan. 07, 2000
Summary:
【要約】【課題】 表面が平坦で、スクラッチ(傷)のない磁気ディスク基板を与える研磨速度が速い研磨剤スラリ-の提供。【解決手段】 a)平均粒径が0.05〜0.5μm の多結晶ダイヤモンド粒子0.05〜0.4重量%、b)アニオン性界面活性剤 0.05〜3重量%、c)水性分散媒 85.6〜99重量%、d)金属石鹸 0〜10重量%、e)研磨助剤 0〜3重量%を含有する研磨剤スラリ-。
Claim (excerpt):
a)平均粒径が0.05〜0.5μm の多結晶ダイヤモンド粒子 0.05〜0.4重量%、b)アニオン性界面活性剤 0.05〜3重量%、c)水性分散媒 85.6〜99重量%、d)金属石鹸 0〜10重量%、e)研磨助剤 0〜3重量%を含有する研磨剤スラリ-。
IPC (5):
C09K 3/14 550
, C09K 3/14
, B24B 37/00
, G11B 5/84
, H01L 21/304 622
FI (5):
C09K 3/14 550 F
, C09K 3/14 550 Z
, B24B 37/00 H
, G11B 5/84 A
, H01L 21/304 622 D
F-Term (9):
3C058AA07
, 3C058AA09
, 3C058CB01
, 3C058CB10
, 3C058DA02
, 3C058DA17
, 5D112AA02
, 5D112AA24
, 5D112GA14
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