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J-GLOBAL ID：200903006668075502

ルテニウムカルボニル金属クラスター錯体

Inventor： 大杉 宏治 ,  田辺 久記 ,  岡本 泰志 ,  平野 竹徳 ,  森川 茂
Applicant, Patent owner： 日本ペイント株式会社
Agent (1)： 赤岡 迪夫 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994136489
Publication number (International publication number)：1995316175
Application date： May. 25, 1994
Publication date： Dec. 05, 1995
Summary：

【要約】【目的】 ヒドロシリル化反応のための白金触媒やロジウム触媒に匹敵する活性を有するルテニウムカルボニル金属クラスター錯体を提供する。【構成】 塩化ルテニウムと一酸化炭素とを、メタノール中加圧下反応させるにあたり、系へRu:Coのモル比で1:1〜1:9の酢酸コバルトを添加する。0.4nm以上のクラスターサイズを有し、コバルトを含まない3〜6核ルテニウムカルボニル金属クラスター錯体が得られる。有機溶媒に対する溶解性を向上させるため、得られたクラスター錯体のカルボニル配位子の一部を炭化水素基含有配位子で置換してもよい。ヒドロシリル基含有成分とアルケニル基含有成分との間のヒドロキシル化反応のための均一系触媒として有用である。

Claim (excerpt)：

式:(Ru)x (CO)y (式中、xは3〜6の整数、yは3x〜4xの整数である。)の構造単位を有し、クラスターサイズが0.4nm以上であるルテニウムカルボニル金属クラスター錯体。

IPC (4)：

C07F 15/00 ,  B01J 31/20 ,  C07F 7/08 ,  C07B 61/00 300