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J-GLOBAL ID:200903006675885056

積層型インダクタ

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 倉内 基弘 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1993120361
Publication number (International publication number):1994310333
Application date: Apr. 26, 1993
Publication date: Nov. 04, 1994
Summary:
【要約】【目的】 小ループ磁界を防止した構造のインダクタまたはトランスにおいて、焼成歪みを抑制することを目的とする。【構成】磁性体と、らせんコイル上の導体パターンと、隣接したコイルターンの間に充填された低透磁率材とよりなるインダクタにおいて、前記磁性体はNi-Zn系及びNi-Zn-Cu系磁性フェライトより選択した一種であり、前記低透磁率材はZn系フェライト及びCu-Zn系フェライトより選択した一種である焼結型インダクタ。
Claim (excerpt):
磁性体と、その内部に1つの軸線の周りに周回するコイル状の導体であって該コイルのターンが該軸線の方向に重畳するようにして形成した導体パターンと、隣接した前記ターンの間に充填された低透磁率材とよりなるインダクタにおいて、前記磁性体はNi-Zn系及びNi-Zn-Cu系磁性フェライトより選択した一種であり、前記低透磁率材はZn系フェライト及びCu-Zn系フェライトより選択した一種である焼結型インダクタ。
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (4)
  • 特開昭59-032115
  • 特開昭59-022304
  • 特開平4-199804
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