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J-GLOBAL ID：200903006693547311

投影露光装置

Inventor： 今井 裕二
Applicant, Patent owner： 株式会社ニコン
Agent (1)： 山口 孝雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993166504
Publication number (International publication number)：1994349703
Application date： Jun. 11, 1993
Publication date： Dec. 22, 1994
Summary：

【要約】【目的】 マスクの熱変形によって発生する光学特性すなわち結像状態の変化に対し良好な補正を行うことのできる投影露光装置を提供することを目的とする。【構成】 本発明の投影露光装置は、所定波長域の照明光で所定のパターンが形成されたマスクを照明し、投影光学系を介して前記所定のパターンの像を被投影基板上に所定の結像状態で結像させる投影露光装置において、前記照明光の吸収による前記マスクの温度変化を光学的に計測するための温度計測手段と、前記温度変化に伴う前記マスクの熱変形量に応じて発生する前記結像状態の変化量を算出するための演算手段と、予め定められた結像状態で投影露光するために、前記結像状態の変化量に基づき倍率変化およびディストーション変化のうち少なくとも一方を補正するための補正手段とを備えていることを特徴とする。

Claim (excerpt)：

所定波長域の照明光で所定のパターンが形成されたマスクを照明し、投影光学系を介して前記所定のパターンの像を被投影基板上に所定の結像状態で結像させる投影露光装置において、前記照明光の吸収による前記マスクの温度変化を光学的に計測するための温度計測手段と、前記温度変化に伴う前記マスクの熱変形量に応じて発生する前記結像状態の変化量を算出するための演算手段と、予め定められた結像状態で投影露光するために、前記結像状態の変化量に基づき倍率変化およびディストーション変化のうち少なくとも一方を補正するための補正手段とを備えていることを特徴とする投影露光装置。

IPC (3)：

H01L 21/027 ,  G02B 13/00 ,  G03F 7/20 521

FI (2)：

H01L 21/30 311 L ,  H01L 21/30 311 N