Pat
J-GLOBAL ID:200903006703910746
光触媒材料
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2003193564
Publication number (International publication number):2005028225
Application date: Jul. 08, 2003
Publication date: Feb. 03, 2005
Summary:
【課題】製造工程が簡単であり、水の酸化・還元電位に対して十分に広いバンドギャップをもつp型半導体を含む高活性なpn接合光触媒材料を提供する。また、ガラスなど比較的耐熱性の低い基材上にも形成可能な、薄膜としてのpn接合光触媒材料を提供する。【解決手段】下記(a)と(b)が接合していることを特徴とする光触媒材料。(a)バンドギャップが2.8eV以上、キャリア密度が1013(cm-3)以下、ドーパントが窒素であるp型光半導体(b)n型光半導体【選択図】なし
Claim (excerpt):
下記(a)と(b)が接合していることを特徴とする光触媒材料。
(a)バンドギャップが2.8eV以上、キャリア密度が1013(cm-3)以下、かつドーパントが窒素であるp型光半導体
(b)n型光半導体
IPC (8):
B01J35/02
, B01J23/06
, B01J37/02
, B01J37/04
, C09D5/16
, C09D7/12
, C09D201/00
, C23C14/08
FI (8):
B01J35/02 J
, B01J23/06 M
, B01J37/02 301P
, B01J37/04 101
, C09D5/16
, C09D7/12
, C09D201/00
, C23C14/08 C
F-Term (66):
4G069AA02
, 4G069AA03
, 4G069AA08
, 4G069BA04A
, 4G069BA04B
, 4G069BA05A
, 4G069BA48A
, 4G069BB04A
, 4G069BB04B
, 4G069BB06A
, 4G069BC03A
, 4G069BC09A
, 4G069BC10A
, 4G069BC12A
, 4G069BC13A
, 4G069BC18A
, 4G069BC22A
, 4G069BC25A
, 4G069BC35A
, 4G069BC35B
, 4G069BC36A
, 4G069BC42A
, 4G069BC43A
, 4G069BC54A
, 4G069BC55A
, 4G069BC56A
, 4G069BC60A
, 4G069BC68A
, 4G069CD10
, 4G069DA06
, 4G069EA01X
, 4G069EA08
, 4G069EB15X
, 4G069EB15Y
, 4G069EC27
, 4G069EC28
, 4G069ED02
, 4G069FA01
, 4G069FA03
, 4G069FB02
, 4G069FB03
, 4G069FB07
, 4G069FB08
, 4G069FB10
, 4G069FB23
, 4G069FB30
, 4G069FB57
, 4J038CD091
, 4J038CD101
, 4J038CD111
, 4J038CD121
, 4J038DL031
, 4J038DL071
, 4J038DL081
, 4J038DL091
, 4J038HA216
, 4J038NA05
, 4K029AA09
, 4K029BA49
, 4K029BB02
, 4K029BC07
, 4K029CA06
, 4K029DC03
, 4K029DC35
, 4K029DC39
, 4K029EA01
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