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J-GLOBAL ID：200903006713617966

位相シフトマスクおよびその製造方法

Inventor： 福島 祐一 ,  小西 敏雄 ,  大久保 欽司
Applicant, Patent owner： 凸版印刷株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993140560
Publication number (International publication number)：1994347993
Application date： Jun. 11, 1993
Publication date： Dec. 22, 1994
Summary：

【要約】【目的】位相シフトパターン側壁部からの入射光の漏れにより生じていたパターン解像度の低下や転写パターンの寸法精度の低下を防止して、位相シフト効果が最大限に得られ、解像度が向上し、寸法精度が良好な転写パターンが得られる位相シフトマスクとその製造方法とを提供する。【構成】透明基板上に、少なくとも、第一の遮光部、光透過部そして位相シフト部とを備えた位相シフトマスクにおいて、前記位相シフト部を形成する位相シフトパターンの側壁に第二の遮光部を有することを特徴とする。

Claim (excerpt)：

透明基板上に、少なくとも、第一の遮光部、光透過部そして位相シフト部とを備えた位相シフトマスクにおいて、該位相シフト部を形成する位相シフトパターンの側壁に第二の遮光部を有することを特徴とする位相シフトマスク。

IPC (2)：

G03F 1/08 ,  H01L 21/027

FI (2)：

H01L 21/30 301 P ,  H01L 21/30 311 W