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J-GLOBAL ID：200903006713879570

光学部品の反射防止処理液及び反射防止処理光学部品

Inventor： 加藤 裕久 ,  田中 尚広
Applicant, Patent owner： 伊藤光学工業株式会社
Agent (1)： 飯田 堅太郎 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992010257
Publication number (International publication number)：1993196802
Application date： Jan. 23, 1992
Publication date： Aug. 06, 1993
Summary：

【要約】【構成】 コロイダルシリカと混合したケイ酸エステルを加水分解し、さらに、白濁するまでコロイド溶液化して調製されてなる反射防止処理液において、反射防止処理液に、下記一般式で示されるフッ化アルキルアルコキシシランの加水分解物が添加混合されていることを特徴とする。F3 C-(CF2 )-a R1 Si( OR2)3(但し、R1 は炭素数1〜4のアルキレン基、R2 は炭素数1〜4のアルキル基、アルコキシアルキル基、アシル基であり、aは0〜10の整数である。)【効果】 光学部品における反射防止処理膜の耐熱水性及び耐汚染性が向上する。

Claim (excerpt)：

コロイダルシリカと混合した一般式(a) で示されるケイ酸エステルを加水分解し、さらに、白濁するまでコロイド溶液化して調製されてなる反射防止処理液において、該反射防止処理液に、一般式(b) で示されるフッ化アルキルアルコキシシランの加水分解物が添加混合されていることを特徴とする光学部品の反射防止処理液。(a) Si(OR)4(但し、Rは炭素数1〜4のアルキル基、アルコキシアルキル基、アシル基である。)(b) F3 C-(CF2 )-a R1 Si( OR2)3(但し、R1 は炭素数1〜4のアルキレン基、R2 は炭素数1〜4のアルキル基、アルコキシアルキル基、アシル基であり、aは0〜10の整数である。)