Pat

J-GLOBAL ID：200903006778742008

シワ形成抑制剤

Inventor： 村瀬 孝利 ,  長谷 正 ,  渋谷 祐輔 ,  西澤 義則 ,  時光 一郎
Applicant, Patent owner： 花王株式会社
Agent (1)： 有賀 三幸 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996066079
Publication number (International publication number)：1997255548
Application date： Mar. 22, 1996
Publication date： Sep. 30, 1997
Summary：

【要約】【解決手段】 アスナロ又はその抽出物を有効成分とするシワ形成抑制剤。【効果】 紫外線の照射によるシワ形成の抑制作用に優れ、皮膚老化予防、特にシワ予防用の外用剤として有用である。

Claim (excerpt)：

アスナロ又はその抽出物を有効成分とするシワ形成抑制剤。

IPC (3)：

A61K 7/48 ,  A61K 7/00 ,  A61K 35/78 ADA

FI (5)：

A61K 7/48 ,  A61K 7/00 K ,  A61K 7/00 U ,  A61K 7/00 W ,  A61K 35/78 ADA B

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 皮膚外用剤
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-066076   Applicant：花王株式会社
• 特開昭63-150208
  
• 美白化粧料組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-037587   Applicant：日本新薬株式会社, サンスター株式会社