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J-GLOBAL ID：200903006783677770
寸法測定装置
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
木内 修
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992352671
Publication number (International publication number)：1994174428
Application date： Dec. 10, 1992
Publication date： Jun. 24, 1994
Summary：
【要約】【目的】 パタ-ンの材質や厚さ、画像入力装置の性能などに左右されずに安定した寸法測定を実現する。【構成】 顕微鏡1と、試料3の拡大像を電気信号に変換するテレビカメラ2と、画像信号を処理する画像処理装置4と、この画像処理装置による測定値を表示する表示装置5とを備えている。画像処理装置4は、基板上に設けられた第1のパターンと第2のパターンとの画像デ-タから第1のパタ-ン画像デ-タと第2のパタ-ン画像デ-タとを分離し、第1の被測定パタ-ン画像データと第2の被測定パタ-ン画像データとを作成し、第1の被測定パタ-ン画像データと第2の被測定パターン画像データとをそれぞれ反転した第1の被測定パターン画像反転データと第2の被測定パターン画像反転データとを作成し、第1の被測定パターン画像データと第1の被測定パタ-ン画像反転デ-タとの相関関数、第2の被測定パタ-ン画像データと第2の被測定パタ-ン画像反転デ-タとの相関関数をそれぞれ求め、各相関関数が最大となる点を検出して第1及び第2のパターン間の距離を求める。
Claim (excerpt)：
基板上に設けられた第1のパターンと第2のパターンとの所定方向の距離を測定する寸法測定装置において、前記両パタ-ンを画像として入力する画像入力手段と、前記両パタ-ンの画像デ-タから第1のパタ-ン画像デ-タと第2のパタ-ン画像デ-タとを分離し、第1の被測定パタ-ン画像データと第2の被測定パタ-ン画像データとを作成する被測定パタ-ン画像データ作成手段と、前記第1の被測定パタ-ン画像データと前記第2の被測定パターン画像データとをそれぞれ左右反転した第1の被測定パターン画像反転データと第2の被測定パターン画像反転データとを作成する被測定パターン反転画像データ作成手段と、前記第1の被測定パターン画像データと前記第1の被測定パタ-ン画像反転デ-タとの相関関数、前記第2の被測定パタ-ン画像データと前記第2の被測定パタ-ン画像反転デ-タとの相関関数をそれぞれ求め、各相関関数が最大となる点を検出して前記両パターン間の距離を求めるパターン間距離演算手段とを備えていることを特徴とする寸法測定装置。
IPC (4)：
G01B 11/02
, G01B 11/24
, G06F 15/62 405
, G06F 15/70 455
