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J-GLOBAL ID：200903006816321054

加熱定着装置の再生方法

Inventor： 谷口 靖
Applicant, Patent owner： キヤノン株式会社
Agent (1)： 岸田 正行 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993192177
Publication number (International publication number)：1995044037
Application date： Aug. 03, 1993
Publication date： Feb. 14, 1995
Summary：

【要約】【目的】 加熱定着装置におけるヒーターもしくはフィルム上に形成した炭素膜が部分的に剥離したり傷が入ったりした場合、該炭素膜からなる潤滑保護膜を再生することにより、加熱定着装置の寿命を長期化し、コストを低減すること。【構成】 フィルム上、該フィルムと接触摺動するヒーターの絶縁保護膜または発熱抵抗体上の少なくとも一つに炭素膜からなる潤滑保護膜を有する加熱定着装置において、例えば、プラズマ室20、マイクロ波発振器25、真空槽27等を有するECRプラズマCVD装置により、前記炭素膜(DLC膜)を、アッシングにより除去した後、新たな炭素膜を形成する。

Claim (excerpt)：

絶縁性基板上に設けられた通電により発熱する発熱抵抗体と、該発熱抵抗体と接触摺動するフィルムを有し、画像形成装置で使用される加熱定着装置であって、フィルムと接触摺動するヒーターの絶縁保護膜あるいは発熱抵抗体上、もしくはフィルム上の少なくとも一つに炭素膜からなる潤滑保護膜を有する加熱定着装置において、上記炭素膜をアッシングにより除去した後、新たな炭素膜を形成することを特徴とする加熱定着装置の再生方法。