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J-GLOBAL ID：200903006911943240

表面を改質するためのプラズマとγ線とを併用した照射重合方法

Inventor： ゴールドバーグ,ユージーン,ピー. ,  ヤヒアウイ,アリ ,  バーンズ,ジェームズ
Applicant, Patent owner： ユニヴァーシティ オブ フロリダ リサーチ ファウンデーション,インコーポレイテッド
Agent (1)： 越場 隆 (外1名)
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：1996520455
Publication number (International publication number)：1998506431
Application date： Dec. 13, 1995
Publication date： Jun. 23, 1998
Summary：

【要約】表面を改質するためのプラズマとγ線とを併用した照射重合方法。(a)表面にグロー放電プラズマを照射して表面を活性化し、(b)この表面をエチレン性不飽和結合を有するモノマーまたはモノマーの混合物と接触させ、(3)エチレン性不飽和結合を有するモノマーの存在下で、活性化された表面にγ線または電子ビームを照射して表面上にグラフトポリマーの被膜を作る。

Claim (excerpt)：

エチレン性不飽和結合を有するモノマーまたはモノマー混合物を、材料表面上でγ線照射によって重合させてこの表面に上記ポリマーの被膜を形成させることによって表面を改質する方法であって、下記(a)〜(c):(a) 材料表面を活性化させるのに十分なパワーを備えたグロー放電プラズマ(GDP)を必要な時間だけ表面に照射し、(b) 上記表面を、γ線照射または電子ビームによって重合が誘導されるエチレン性不飽和結合を有するモノマーまたはモノマー混合物と接触させ、(c) このエチレン性不飽和モノマー溶液の存在下で、活性化された表面にγ線または電子ビームを照射して重合を開始させて表面にポリマー被膜を形成させる段階を含む方法において、重合を下記(i)〜(iii)の条件で行うことを特徴とする方法:(i) 溶液のモノマー濃度を約0.1〜50重量%とし、(ii) γ線または電子ビームの全照射量を約0.001〜0.5メガラドとし、(iii) γ線照射率は約10〜2500ラド/分とし、電子ビーム照射率は約10〜108ラド/分にする。

IPC (9)：

C08J 7/04 ,  A61L 31/00 ,  B05D 7/24 302 ,  B32B 27/30 ,  C08F 2/00 ,  C08F 2/46 ,  C08F291/00 ,  C08J 7/00 302 ,  A61M 25/00 304

FI (10)：

C08J 7/04 T ,  A61L 31/00 Z ,  B05D 7/24 302 Z ,  B32B 27/30 Z ,  C08F 2/00 C ,  C08F 2/46 ,  C08F291/00 ,  C08J 7/00 302 ,  C08J 7/04 U ,  A61M 25/00 304

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開昭64-002644
  
• 高分子材料の表面処理方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-117831   Applicant：日本合成ゴム株式会社
• 特開平4-159337