変化する断面を有する反応装置、その製造方法および局所的接触時間を変化させて反応を行う方法

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (3)：清水初志 , 新見浩一 , 清水千春
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2004506947
Publication number (International publication number)：2006508783
Application date： May. 21, 2003
Publication date： Mar. 16, 2006
Summary：

【課題】温度分布または局所的反応率分布を均一にし、所望の生成物の選択性や触媒寿命の向上が図れる反応方法および反応装置を提供する。【解決手段】断面積が変化する化学チャンネル内で化学反応を行なわせ、このチャンネルを反応物質が流れるにともなって局所的接触時間が変化するような方法を採用する。さらには、断面積が変化する反応チャンネルを有する反応装置を採用する。好ましい実施例では、反応チャンネル部分が入口から出口へ向けて広くなるような台形を備える。

Claim (excerpt)：

入口と出口を有しかつ触媒を含む反応マイクロチャンネルからなり、前記反応マイクロチャンネルの断面は反応触媒を含むマイクロチャンネル部分の流路に沿って変化することを特徴とする触媒的化学反応装置。

IPC (3)：

B01J 19/00 , C07C 1/04 , C07C 9/04

FI (3)：

B01J19/00 321 , C07C1/04 , C07C9/04

F-Term (31)：

4G075AA02 , 4G075AA39 , 4G075AA45 , 4G075BA05 , 4G075BA06 , 4G075BD02 , 4G075BD14 , 4G075BD16 , 4G075CA54 , 4G075DA02 , 4G075EA07 , 4G075EB21 , 4G075EB22 , 4G075EE01 , 4G075EE03 , 4G075EE21 , 4G075EE31 , 4G075FA14 , 4G075FA16 , 4G075FB02 , 4H006AA02 , 4H006AA04 , 4H006AC41 , 4H006BA08 , 4H006BA20 , 4H006BA23 , 4H006BA55 , 4H006BD81 , 4H039CA60 , 4H039CB20 , 4H039CL35

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

微小流路構造体、その製造方法及びその用途
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2002-112131 Applicant：東ソー株式会社
気相反応物質触媒反応用化学反応器及び方法
Gazette classification：公表公報 Application number：特願2001-516650 Applicant：バッテル・メモリアル・インスティチュート
集積マイクロセラミック化学プラント
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-094957 Applicant：イーストマンコダックカンパニー

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