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J-GLOBAL ID：200903006981656745

シロキサン化合物含有ガス精製方法および装置

Inventor： 浜口 敬三 ,  長藤 雅則 ,  清水 明 ,  清水 浩
Applicant, Patent owner： 日本鋼管株式会社
Agent (1)： 鈴江 武彦 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000252541
Publication number (International publication number)：2002060767
Application date： Aug. 23, 2000
Publication date： Feb. 26, 2002
Summary：

【要約】【課題】 シロキサン化合物含有ガス中のシロキサン化合物を安価に効率よく除去して精製ガスを得ることが可能な、シロキサン化合物含有ガスの精製方法を提供する。【解決手段】 シロキサン化合物含有ガスを、多孔質吸着剤が充填された充填層に通過させて、前記多孔質吸着剤に前記シロキサン化合物含有ガス中のシロキサン化合物を吸着させることにより、前記ガス中に含まれるシロキサン化合物を除去して精製ガスを得ることを特徴とする。前記シロキサン化合物含有ガスは、0.5m/s以下の空塔速度で、前記充填層を通過させることが好ましい。また、前記充填層に充填される多孔質吸着剤は、500m2/g以上の比表面積を有することが好ましく、10Å〜20Åの範囲の細孔の積算容量が0.1cm3/g以上であることが好ましい。

Claim (excerpt)：

シロキサン化合物含有ガスを、多孔質吸着剤が充填された充填層に通過させて、前記多孔質吸着剤に前記シロキサン化合物含有ガス中のシロキサン化合物を吸着させることにより、前記ガス中に含まれるシロキサン化合物を除去して精製ガスを得ることを特徴とするシロキサン化合物含有ガスの精製方法。

IPC (6)：

C10L 3/10 ,  B01D 53/02 ,  B01D 53/04 ,  B01D 53/34 ZAB ,  B01D 53/64 ,  B01J 20/28

FI (6)：

B01D 53/02 Z ,  B01D 53/04 Z ,  B01J 20/28 Z ,  C10L 3/00 B ,  B01D 53/34 ZAB ,  B01D 53/34 136 Z

F-Term (29)：

4D002AA26 ,  4D002AC10 ,  4D002BA04 ,  4D002CA07 ,  4D002CA08 ,  4D002CA09 ,  4D002DA41 ,  4D002DA45 ,  4D002DA46 ,  4D002GA01 ,  4D002GB12 ,  4D002GB20 ,  4D012BA01 ,  4D012CA07 ,  4D012CA10 ,  4D012CA12 ,  4D012CC07 ,  4D012CC14 ,  4D012CE03 ,  4D012CF10 ,  4D012CG05 ,  4G066AA05B ,  4G066BA23 ,  4G066BA24 ,  4G066BA25 ,  4G066BA26 ,  4G066CA45 ,  4G066DA02 ,  4G066DA04

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 溶剤回収装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-062479   Applicant：凸版印刷株式会社