Pat
J-GLOBAL ID：200903006997420350

ブラックマトリックス用色素、該色素を含むレジスト組成物、当該組成物を用いてブラックマトリックスを製造する方法、及び該方法により得られるブラックマトリックス

Inventor：
日城 良樹

About 日城 良樹


Applicant, Patent owner：
住友化学工業株式会社

About 住友化学工業株式会社


Agent (1)： 久保山 隆 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994055792
Publication number (International publication number)：1995261015
Application date： Mar. 25, 1994
Publication date： Oct. 13, 1995
Summary：
【要約】 (修正有)【目的】 充分な遮光効果が得られ、微細度及び耐熱性等の諸性能に優れ且つ充分な色濃度が得られるブラックマトリックス及びその製造方法を提供する。【構成】 水素原子が1個置換されたスルホンアミド基を有し且つアルカリ性現像液及び有機溶剤の双方に可溶なブラックマトリックス用色素の色の異なる2種以上、アルカリ可溶性樹脂、キノンジアジド化合物及び有機溶剤を含むブラックマトリックス用黒色或いは非黒色ポジ型レジスト組成物、さらに光酸発生剤、架橋剤及び有機溶剤を含む黒色或いは非黒色ネガ型レジスト組成物をリソグラフィーすることにより得られる黒色或いは非黒色皮膜を支持体上に設けたブラックマトリクス。
Claim (excerpt)：
水素原子が1個置換されたスルホンアミド基を有し、且つ、アルカリ性現像液及び有機溶剤の双方に可溶なブラックマトリックス用色素。
IPC (3)：
G02B 5/20 101 ,  C09B 69/00 ,  G03F 7/022
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (3)

Return to Previous Page

TOP

BOTTOM