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J-GLOBAL ID:200903007014461744

フッ素含有水素吸蔵材

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 石田 敬 (外3名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000319480
Publication number (International publication number):2002126506
Application date: Oct. 19, 2000
Publication date: May. 08, 2002
Summary:
【要約】【課題】 単位空間あたりの水素吸蔵量が多く、軽量で、かつ水素を比較的容易に放出させることができる水素吸蔵材、及びこうした水素吸蔵材を比較的容易に製造することができる方法を提供する。【解決手段】 フッ素原子の間に水素が吸蔵される空隙が形成されてなることを特徴とする水素吸蔵材である。好ましくは、その空隙が、無機層状物質の正電荷層に固定されたフッ素原子によって形成され、又は金属錯体を構成するフッ素含有配位子によって形成され、又は活性炭に固定されたフッ素原子によって形成される。こうした水素吸蔵材は、正の層電荷を有する無機層状物質の層間の負イオンをフッ素イオンに置換する、フッ素含有有機物を配位子とする金属錯体を析出させる、又はフッ素含有有機物を活性炭の細孔内部に導入して炭化させることによって製造することができる。
Claim (excerpt):
基材に導入されたフッ素原子の間に水素が吸蔵される空隙が形成されてなることを特徴とする水素吸蔵材。
IPC (8):
B01J 20/02 ,  B01J 20/04 ,  B01J 20/20 ,  B01J 20/22 ,  B01J 20/30 ,  C01B 3/00 ,  F17C 11/00 ,  H01M 8/04
FI (8):
B01J 20/02 A ,  B01J 20/04 C ,  B01J 20/20 D ,  B01J 20/22 A ,  B01J 20/30 ,  C01B 3/00 B ,  F17C 11/00 C ,  H01M 8/04 J
F-Term (17):
3E072EA10 ,  4G040AA42 ,  4G066AA05B ,  4G066AA05C ,  4G066AA08B ,  4G066AA66B ,  4G066AA66C ,  4G066AB24B ,  4G066AB24C ,  4G066BA23 ,  4G066CA38 ,  4G066DA04 ,  4G066FA11 ,  4G140AA42 ,  4G140AA48 ,  5H027AA02 ,  5H027BA13
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (1) Cited by examiner (1)

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