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J-GLOBAL ID：200903007030198115
処理装置
Inventor：
Applicant, Patent owner：
,
Agent (1)：
浅井 章弘
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991309811
Publication number (International publication number)：1993121306
Application date： Oct. 29, 1991
Publication date： May. 18, 1993
Summary：
【要約】【目的】 処理液の蒸気の存在及びその濃度を確実に検出する。【構成】 HMDS等の処理液2を窒素などのキャリアガスにより気化し、これを処理容器14内へ導入して被処理体16を処理する装置において、上記処理容器14からの排気系18にキャリアガス中に含まれる処理液の蒸気濃度を検出する処理液濃度検出手段24を設ける。この検出手段24には、合成2分子膜センサ42が含まれており、蒸気濃度を確実に検出する。
Claim (excerpt)：
処理液をキャリアガスにより気化し、該気化された処理液を含有するキャリアガスを処理容器内へ導入して被処理体を処理する処理装置において、前記キャリアガスの流路に、前記キャリアガス中に含有する処理液の濃度を測定する処理液濃度検出手段を設けるように構成したことを特徴とする処理装置。
IPC (4)：
H01L 21/027
, B05C 9/10
, B05C 11/08
, G03F 7/11
