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J-GLOBAL ID：200903007030233468
光導波路及びその製造方法
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
絹谷 信雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993045403
Publication number (International publication number)：1994258538
Application date： Mar. 05, 1993
Publication date： Sep. 16, 1994
Summary：
【要約】【目的】 高寸法精度、低損失の光導波路及びその製造方法を提供する。【構成】 基板と、該基板上に形成されたクラッド層と、クラッド層の中に断面が略矩形状に形成されたコアとを有する光導波路において、クラッド11及びコア12がSiOxNyHzからなり、クラッド11の窒素含有量を0.2アトミック%から2アトミック%までに設定すると共に、コア12の窒素含有量を3アトミック%から25アトミック%までに設定したことを特徴としている。
Claim (excerpt)：
基板と、該基板上に形成されたクラッドと、該クラッドの中に断面が略矩形状に形成されたコアとを有する光導波路において、上記クラッド及びコアがSiOxNyHzからなり、上記クラッドの窒素含有量を0.2アトミック%から2アトミック%までに設定すると共に、上記コアの窒素含有量を3アトミック%から25アトミック%までに設定したことを特徴とする光導波路。
Patent cited by the Patent：
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