Pat
J-GLOBAL ID:200903007044839067

プラズマト-チ装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 杉信 興
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1994193931
Publication number (International publication number):1996057655
Application date: Aug. 18, 1994
Publication date: Mar. 05, 1996
Summary:
【要約】【目的】 ア-ク起動の信頼性の向上。ト-チ本体より離れた操作盤でア-クスタ-ト操作可能にする。【構成】 第1放電電極(8),第1放電電極の先端に対向するガス噴射口を有し第1放電電極の先端部を包囲するチップ(5)、および、第1放電電極およびチップを支持し前記ガス噴射口に至るガス流路を有するト-チ本体(1);および、第1放電電極と加工対象材(2)の間にプラズマア-ク加工電圧を印加するメインア-ク電源(58);を備えるプラズマト-チ装置において、先端が第1放電電極(8)に対向する第2放電電極(7a2/28b3);および、第1放電電極と第2放電電極の間に電気スパ-ク発生のための電圧パルスを印加する高圧発生器(3);を備えることを特徴とする。
Claim (excerpt):
第1放電電極,第1放電電極の先端に対向するガス噴射口を有し第1放電電極の先端部を包囲するチップ、および、第1放電電極およびチップを支持し前記ガス噴射口に至るガス流路を有するト-チ本体;および、第1放電電極と加工対象材の間にプラズマア-ク加工電圧を印加するメインア-ク電源;を備えるプラズマト-チ装置において、先端が第1放電電極に対向する第2放電電極;および、第1放電電極と第2放電電極の間に電気スパ-ク発生のための電圧パルスを印加する高圧発生器;を備えることを特徴とするプラズマト-チ装置。
IPC (4):
B23K 10/00 504 ,  B23K 10/00 503 ,  H02M 9/00 ,  H05H 1/36

Return to Previous Page