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J-GLOBAL ID：200903007065880431

パターン検査装置

Inventor： 西村 慎祐 ,  西垣 寿 ,  法西 弘明 ,  木下 秀俊 ,  福留 裕二
Applicant, Patent owner： 株式会社東芝
Agent (1)： 鈴江 武彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994078570
Publication number (International publication number)：1995286965
Application date： Apr. 18, 1994
Publication date： Oct. 31, 1995
Summary：

【要約】【目的】本発明は、パターン形状の検査を効率よくかつ高速、高精度に行う。【構成】検査試料(13)に照射する電子ビームの設定ビーム照射位置に対する実際のビーム照射位置の回転ずれ量θを検出し、この回転ずれ量θ及び矩形等の電子ビーム照射形状に基づいてパターン検査・判定装置(34)においてパターンぬけ欠陥面積Mkwと設定許容欠陥面積Msとの関係を比較してパターン形状の判定を行う。

Claim (excerpt)：

電子ビームを検査試料に照射したときに発生する荷電粒子を検出して前記検査試料におけるパターン形状を検査するパターン検査装置において、前記検査試料のデータにより求められる設定ビーム照射位置に対し、前記電子ビームを前記検査試料に照射したときの実際のビーム照射位置の回転ずれ量を検出する回転ずれ検出手段と、少なくともこの検出された回転ずれ量及び前記電子ビーム照射形状に基づいて前記設定ビーム照射位置に対する前記実際のビーム照射位置のずれ面積を求め、このずれ面積と設定許容欠陥面積とを比較してパターン形状の判定を行う判定手段と、を具備したことを特徴とするパターン検査装置。

IPC (4)：

G01N 21/88 ,  G03F 1/08 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/66