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J-GLOBAL ID:200903007078974273

浸漬型膜濾過装置を用いた水処理設備の運転方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 森本 義弘
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1996101764
Publication number (International publication number):1997285786
Application date: Apr. 24, 1996
Publication date: Nov. 04, 1997
Summary:
【要約】【課題】 浄水処理、用水処理、地下水処理等において、熟練した技術者や大きな装置設置スペースを要さず、効率的にヒ素を除去できるようにする。【解決手段】 ヒ素を含んだ原水に予め、ヒ素を沈殿させる薬品あるいはヒ素を吸着する吸着材を添加した混合水を膜濾過槽7に流入させるか、または原水を膜濾過槽7に流入させ前記薬品あるいは吸着材を添加して混合水となして、原水中のヒ素を沈殿させるかあるいは吸着材に吸着させるとともに、膜濾過槽7内の混合水22を槽内に設置した膜濾過装置6により固液分離する。その際、膜濾過槽7への流入水量に対する膜濾過水23の取出量を99%以上として、添加した薬品を膜濾過槽7内に高濃度に保持することにより、ヒ素の沈殿を促進する。
Claim (excerpt):
ヒ素を含んだ原水に予め、ヒ素を沈殿させる薬品あるいはヒ素を吸着する吸着材を添加した混合水を膜濾過槽に流入させるか、または原水を膜濾過槽に流入させ前記薬品あるいは吸着材を添加して混合水となして、原水中のヒ素を沈殿させるかあるいは吸着材に吸着させるとともに、膜濾過槽内の混合水を槽内に設置した浸漬型膜濾過装置により固液分離し、浸漬型膜濾過装置の膜面を透過した膜濾過水を槽外へ取り出すに際し、前記膜濾過槽への流入水量に対する膜濾過水の取出量を99%以上として、膜濾過槽内に薬品あるいは吸着材を高濃度に保持することにより、ヒ素の沈殿あるいは吸着を促進することを特徴とする浸漬型膜濾過装置を用いた水処理設備の運転方法。
IPC (5):
C02F 1/44 ,  C02F 9/00 502 ,  C02F 9/00 ,  C02F 9/00 503 ,  C02F 9/00 504
FI (6):
C02F 1/44 H ,  C02F 9/00 502 E ,  C02F 9/00 502 P ,  C02F 9/00 502 H ,  C02F 9/00 503 Z ,  C02F 9/00 504 B

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