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J-GLOBAL ID：200903007110913885

マイクロ波プラズマ処理装置

Inventor： チン ファー チェン ,  ディビッド パークル ,  井上 卓 ,  宮原 俊二 ,  田中 雅彦
Applicant, Patent owner： 住友金属工業株式会社 ,  ラム リサーチ コーポレーション
Agent (1)： 井内 龍二
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992132666
Publication number (International publication number)：1996106994
Application date： May. 25, 1992
Publication date： Apr. 23, 1996
Summary：

【要約】 (修正有)【目的】マイクロ波の導入口1cとプラズマ生成室1の一部をマイクロ波透過性の物質で充填して導波路の段差によるプラズマの異常反射を抑え、該物質の形、厚みを変えて室1内の電界分布を均一化してプラズマを安定に発生させる。【構成】室1は水冷構造の中空円筒で空洞共振器を構成し、上部に入口1cが下部にプラズマ引出口1dが形成され、入口1c内に導入窓8,9があり透過性物質から成り、窓9の直径は室1の直径と略等しく、厚さは伝播波長の1/4の整数倍にして反射を防ぐ。又ガス管1g,3gを通しガスを供給し、励磁コイル4により室1内にECRによりプラズマを発生させる。

Claim (excerpt)：

マイクロ波導入口が開口されたプラズマ生成室を備えたマイクロ波プラズマ処理装置において、前記マイクロ波導入口に面する前記プラズマ生成室の端部に、その全断面にわたってマイクロ波透過性物質が充填されて形成されたマイクロ波導入窓が配設されていることを特徴とするマイクロ波プラズマ処理装置。

IPC (6)：

H05H 1/46 ,  C23C 16/50 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/3065 ,  H01L 21/31 ,  H01P 7/06

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 特開昭63-126196
  
• 特開平3-244123