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J-GLOBAL ID：200903007132275637

バルキーな無水物添加剤を含むレジスト組成物

Inventor：
イトウ・ヒロシ

About イトウ・ヒロシ

, 
プシュカラ・ラオ・ヴァラナシ

About プシュカラ・ラオ・ヴァラナシ


Applicant, Patent owner：
インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション

About インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション


Agent (1)： 坂口 博 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001239023
Publication number (International publication number)：2002091006
Application date： Aug. 07, 2001
Publication date： Mar. 27, 2002
Summary：
【要約】【課題】 193nmの放射でイメージングし、これを現像して、高解像度および耐エッチング性に優れたレジスト構造を形成するレジスト組成物を提供する。【解決手段】 本発明の酸触媒型ポジ型レジスト組成物は(a)環状オレフィン、アクリラートおよびメタクリラートから成るグループから選択された単量体を含むイメージング・ポリマー、(b)放射感受性酸発生剤、ならびに(c)バルキーな無水物添加剤、の組合せを含む。イメージング・ポリマーは環状オレフィン・ポリマーであることが好ましい。
Claim (excerpt)：
(a)環状オレフィン、アクリラートおよびメタクリラートから成るグループから選択された単量体を含んで成るイメージング・ポリマーと、(b)放射感受性酸発生剤と、(c)バルキーな無水物添加剤とを含むレジスト組成物。
IPC (3)：
G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 501 ,  H01L 21/027
FI (3)：
G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 501 ,  H01L 21/30 502 R
F-Term (15)：
2H025AA04 ,  2H025AA07 ,  2H025AA08 ,  2H025AA09 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB08 ,  2H025CB41 ,  2H025CC20 ,  2H025FA17
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (3)

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