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J-GLOBAL ID：200903007145062608

レジスト剥離装置

Inventor： 浦野 新一
Applicant, Patent owner： 日新電機株式会社
Agent (1)： 川瀬 茂樹
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993202770
Publication number (International publication number)：1995037870
Application date： Jul. 22, 1993
Publication date： Feb. 07, 1995
Summary：

【要約】【目的】 ウエハに塗布されたレジストを除去するために、酸素プラズマを用いたアッシング装置が用いられる。酸素ガスを石英ベルジャに導き、ベルジャ外の半円弧状の電極からベルジャ内の酸素ガスに高周波電界を印加しプラズマとする。酸素はオゾンなどの中性活性種となり、これが加熱されたウエハに接触して、レストを酸化する。外部対向電極によって高周波電力を与えるので、プラズマ生成効率が悪い。アッシングの速度も遅い。より高度のレジスト除去を行う装置を与えることが目的である。【構成】 電極の面積を実効的に増やす。ベルジャ内にフィンや円筒など表面積の大きい導体を設置して電極のいずれかに接続する。チャンバ内に複数の有孔電極板を平行に並べて、この間で高周波放電を行わせる。有孔電極板の面上にフィンや筒、棒などを形成し電極面積をさらに拡大する。

Claim (excerpt)：

ウエハの上に塗付してあるレジストを除去するために高周波放電により酸素プラズマを作り活性種をウエハに当てるようにしたレジスト剥離装置であって、真空に引くことのできる真空チャンバ1と、真空チャンバ1の上に設けたベルジャ2と、高周波電界を印加するためにベルジャ2の外部に設けた電極5、電極6と、ウエハを加熱するために、真空チャンバ1に設けられるヒ-タ7と、真空チャンバ1とベルジャ2の間に設けられる有孔電極板であるシ-ルド電極4と、電極5、6間に高周波を与えるための高周波電源9と、ベルジャ2内部に設けられ複数枚の羽根を持ち、接地あるいは高周波電源に接続されるフィン20とを含み、フィンにより電極面積を増やし酸素プラズマ生成を促進したことを特徴とするレジスト剥離装置。

IPC (2)：

H01L 21/3065 ,  H01L 21/027

FI (3)：

H01L 21/302 H ,  H01L 21/30 572 A ,  H01L 21/302 C