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J-GLOBAL ID：200903007161675393

非線形光学積層体の製造方法

Inventor： 久畑 満 ,  服部 康弘 ,  上宮 崇文
Applicant, Patent owner： 住友電気工業株式会社
Agent (1)： 亀井 弘勝 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994231798
Publication number (International publication number)：1996095099
Application date： Sep. 27, 1994
Publication date： Apr. 12, 1996
Summary：

【要約】【目的】 実用レベルの、十分に強い非線形光学効果を発現しうる非線形光学積層体を製造する製造方法を提供する。【構成】 基板S上に、有機非線形光学材料からなる第1層の薄膜1を形成し、ついでこの薄膜1上に、金属微粒子Mと、有機非線形光学材料の連続相とを交互に形成して、有機非線形光学材料の連続相中に金属微粒子Mが分散した構造の、第2層以降の薄膜2,3,4を積層する。

Claim (excerpt)：

基板上に、有機非線形光学材料からなる、膜厚が3〜100nmの薄膜を形成し、ついでこの薄膜上に、粒径が100nm以下の粒状に成長させた金属微粒子と、有機非線形光学材料の連続相とを交互に形成して、当該有機非線形光学材料の連続相中に、上記金属微粒子が分散した構造の薄膜を複数層、積層することを特徴とする非線形光学積層体の製造方法。

IPC (2)：

G02F 1/35 503 ,  G02F 1/35 504