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J-GLOBAL ID：200903007195489343

感光性樹脂組成物とそれを用いたパターン形成方法

Inventor： 三輪 崇夫 ,  岡部 義昭 ,  前川 康成 ,  ラメス ランクラーデ ジュラルディン ,  上野 巧
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所 ,  日立化成工業株式会社
Agent (1)： 高橋 明夫 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996120199
Publication number (International publication number)：1997304930
Application date： May. 15, 1996
Publication date： Nov. 28, 1997
Summary：

【要約】【課題】現像残りのない高精度で強靱なレリーフパターンを現像により容易に形成することができる感光性樹脂組成物の提供。【解決手段】一般式〔1〕【化5】〔式中A1は炭素数4以上の4価の芳香族,脂肪族炭化水素,環式炭化水素、R1,R2は炭素数20以下の飽和脂肪族カルボン酸基から選ばれ、互いに同じでもよい。〕で表される繰り返し単位を含み、それのポリスチレン換算分子量が1,000〜1,000,000である樹脂成分100重量部と、電磁波の照射により酸を発生する光酸発生剤1〜100重量部を含む感光性樹脂組成物。

Claim (excerpt)：

一般式〔1〕【化1】〔式中A1は炭素数4以上の4価の芳香族,脂肪族炭化水素,環式炭化水素、R1,R2は炭素数20以下の飽和脂肪族カルボン酸基から選ばれ、互いに同じでもよい。〕で表される繰り返し単位を含み、それのポリスチレン換算分子量が1,000〜1,000,000である樹脂成分100重量部と電磁波の照射により酸を発生する光酸発生剤1〜100重量部を含むことを特徴とする感光性樹脂組成物。

IPC (5)：

G03F 7/039 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/037 501 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/312

FI (5)：

G03F 7/039 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/037 501 ,  H01L 21/312 D ,  H01L 21/30 502 R