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J-GLOBAL ID：200903007201580420

電子ビーム装置

Inventor： 田口 孝雄 ,  本荘 一郎
Applicant, Patent owner： 富士通株式会社
Agent (1)： 井桁 貞一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992182716
Publication number (International publication number)：1994028993
Application date： Jul. 10, 1992
Publication date： Feb. 04, 1994
Summary：

【要約】【目的】 電子ビーム露光装置に関し,廉価でしかも信頼性の高い電子ビーム露光装置の提供を目的とする。【構成】 電子を放射するマイクロエミッタ1の配置された第1の真空室2と,マイクロエミッタ1から放射された電子が照射される基板3及び基板3で反射される電子及び二次電子を捕獲する検出器4の配置された第2の真空室5と, 第1の真空室2と第2の真空室5を隔てる真空隔壁6とを有し, 第1の真空室2の真空度は第2の真空室5の真空度より高く,真空隔壁6は気密を保ちかつ電子ビームを透過させる薄膜からなる電子ビーム装置により構成する。また,前記真空隔壁6は多層膜からなる電子ビーム装置により構成する。

Claim (excerpt)：

電子を放射するマイクロエミッタ(1) の配置された第1の真空室(2) と, 該マイクロエミッタ(1) から放射された電子が照射される基板(3)及び該基板(3) で反射される電子及び二次電子を捕獲する検出器(4) の配置された第2の真空室(5) と, 該第1の真空室(2) と該第2の真空室(5) を隔てる真空隔壁(6) とを有し,該第1の真空室(2) の真空度は該第2の真空室(5) の真空度より高く,該真空隔壁(6) は気密を保ちかつ電子ビームを透過させる薄膜からなることを特徴とする電子ビーム装置。

IPC (6)：

H01J 37/18 ,  G03F 7/20 504 ,  G03F 7/20 521 ,  G21K 5/04 ,  H01J 37/305 ,  H01L 21/027