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J-GLOBAL ID：200903007221095260

フオトマスク

Inventor： 上山 嗣之 ,  上田 幸浩
Applicant, Patent owner： シヤープ株式会社
Agent (1)： 梅田 勝
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991251116
Publication number (International publication number)：1993088350
Application date： Sep. 30, 1991
Publication date： Apr. 09, 1993
Summary：

【要約】【目的】 垂直、水平のどちらに偏光したレーザー光を用いてもISOの規格を満足するガラスディスクを容易に製作することのできるフォトマスクを提供する。【構成】 透明基板上に、半透光性で第2層をエッチング除去する際にエッチングのストップ膜として作用する第1の膜と、遮光膜として用いる第2の膜とを形成して、多層構造のフォトマスクとする。

Claim (excerpt)：

透明基板と、該透明基板上に形成され、エッチングに対する耐性を有する半透光性の第1の膜と、該第1の膜上に形成され、エッチング可能な遮光性の第2の膜とを有することを特徴とするフォトマスク。

IPC (2)：

G03F 1/08 ,  H01L 21/027