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J-GLOBAL ID：200903007236706273
平行平板型気相成長装置
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
早瀬 憲一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992269608
Publication number (International publication number)：1994097090
Application date： Sep. 10, 1992
Publication date： Apr. 08, 1994
Summary：
【要約】【目的】 平行平板型気相成長装置において、成長膜厚の均一性の向上を可能とした、平行平板型気相成長装置を得る。【構成】 上部電極3の端部に材料ガス供給用ノズル1と排気用ノズル2とを有し、上部電極3の試料と対向する表面の、前記材料ガス供給用ノズルから前記材料ガス排気用ノズルに向かう方向に、等間隔に凹設した複数の溝3aを有し、かつ上部電極の試料と対向する側に金網状の緩衝板6を備える。【効果】 試料上に供給する材料ガスの濃度,流速を均一化し、均一な膜厚をもった薄膜を形成することができる。
Claim (excerpt)：
反応室内に対向する平板状の上部電極と下部電極を有し、材料ガスを用いて試料上に成膜を行う平行平板型気相成長装置において均一で高密度なガス流を得ることのできる材料ガス供給用ノズルおよび排気用ノズルを備え、上部電極は試料と対向する側の表面に、前記材料ガス供給用ノズルから前記排気用ノズルに向かう方向に、等間隔に凹設した複数の溝を有するものであり、かつ上部電極の試料と対向する側に、試料に向かう方向のガス流を緩やかにする金網状の緩衝板を備えたことを特徴とする平行平板型気相成長装置。
IPC (2)：
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