Pat

J-GLOBAL ID：200903007261950154

マスクおよび製造方法

Inventor： フォード・エリアス・ドニー ,  ダグラス・シーモア・グッドマン
Applicant, Patent owner： インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション
Agent (1)： 頓宮 孝一 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993128778
Publication number (International publication number)：1994059435
Application date： May. 31, 1993
Publication date： Mar. 04, 1994
Summary：

【要約】【目的】 マスクの前面に第1のパターン化された反射コーティングを含み、マスクの背面に反射率の高い第2のパターン化された誘電コーティングなどのパターン化放射遮蔽層を導入したマスク及びその製造方法を提供する。【構成】 マスクの前面に第1のパターン化反射コーティング14を含み、マスクの背面に、反射率の高い第2のパターン化誘電コーティングなどのパターン化放射遮蔽層を導入する。この反射率の高い第2の誘電コーティングはプリマスク16と呼ばれ、マスクのオープン領域を通過するレーザ・エネルギに影響を与えることなく、基板12の加熱につながる、マスクに向けられるレーザ・エネルギのほとんどをなくす。プリマスク16のオープン領域は、マスク内のオープン領域よりも充分に大きいので、照射ジオメトリに干渉しない(すなわち照射開口数よりも大きい角度を形成する)。

Claim (excerpt)：

放射ビームを遮るマスクであって、背面が放射ビーム源に向き合うように配置された放射透過性の2面を持つ基板と、上記基板の上記背面と反対側の前面に配置され、放射線透過領域を有する、放射線反射物質または放射線吸収物質の第1パターン化層と、上記基板の上記背面に配置され、上記放射線透過領域と同じ対応する位置にこれよりも大きな放射線透過領域を有し、放射線を上記基板の背面に照射される前に反射または吸収するように機能する、放射線遮蔽物質の第2パターン化層と、を含むマスク。

IPC (3)：

G03F 1/08 ,  G03F 7/20 ,  H01L 21/027

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開平2-093457
  
• 特開平3-271738
  
• 特開昭56-072445