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J-GLOBAL ID：200903007264964938

光触媒酸化チタン膜の製造方法

Inventor： 馬場 恒明
Applicant, Patent owner： 長崎県
Agent (1)： 原崎 正
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999228370
Publication number (International publication number)：2001046884
Application date： Aug. 12, 1999
Publication date： Feb. 20, 2001
Summary：

【要約】【課題】 無機、金属を問わず密着性が良く、また光触媒活性を付与することのできる光触媒酸化チタン膜の製造方法を提供することにある。【解決手段】 真空容器2内に基板1を絶縁固定し、真空容器2内にチタニウムテトライソプロポキシドの気体を原料ガスとして導入すると同時に減圧状態に維持し、高周波放電によりプラズマを生成し、基板1に負電位のパルス電圧を繰り返し印加することによってプラズマ中の正イオンを基板1に吸引加速し、注入と同時に基板1に酸化チタン膜を成膜し、この方法により製造した酸化チタン膜を400〜650°Cの範囲内で加熱することにより結晶化させ、光触媒活性を付与する。

Claim (excerpt)：

真空容器内に基板を絶縁固定し、真空容器内にチタニウムテトライソプロポキシドの気体を原料ガスとして導入すると同時に減圧状態に維持し、高周波放電によりプラズマを生成し、基板に負電位のパルス電圧を繰り返し印加することによってプラズマ中の正イオンを基板に吸引加速し、注入と同時に基板に酸化チタン膜を成膜することを特徴とする光触媒酸化チタン膜の製造方法。

IPC (6)：

B01J 35/02 ,  B01J 37/02 301 ,  C04B 22/06 ,  C04B 35/495 ,  C23C 16/40 ,  C23C 16/509

FI (6)：

B01J 35/02 J ,  B01J 37/02 301 D ,  C04B 22/06 A ,  C23C 16/40 ,  C23C 16/509 ,  C04B 35/00 J

F-Term (26)：

4G012MA00 ,  4G030AA16 ,  4G030AA37 ,  4G030AA64 ,  4G030BA34 ,  4G030GA35 ,  4G069AA03 ,  4G069AA08 ,  4G069AA09 ,  4G069BA04A ,  4G069BA04B ,  4G069BA04C ,  4G069BA48A ,  4G069BA48C ,  4G069DA06 ,  4G069EA08 ,  4G069FA02 ,  4G069FB02 ,  4G069FB29 ,  4G069FB40 ,  4K030AA11 ,  4K030BA18 ,  4K030FA04 ,  4K030JA10 ,  4K030JA17 ,  4K030LA11