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J-GLOBAL ID：200903007269968044
半導体製造装置のための管理方法および管理システム
Inventor：
Applicant, Patent owner：
,
Agent (1)：
佐藤 幸男 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998277043
Publication number (International publication number)：2000114130
Application date： Sep. 30, 1998
Publication date： Apr. 21, 2000
Summary：
【要約】【課題】 半導体製造装置の異常動作を正確に判定することのできる管理方法を提供すること。【解決手段】 半導体製造装置11の正常動作状態下で少なくとも1つのパラメータについて複数のデータをサンプリングし、サンプリングされたデータ群に基づいてマハラノビス空間Aを作成し、該マハラノビス空間に基づいて、半導体製造装置11の動作状態で得られる前記パラメータについての測定値からマハラノビス距離D2を算出し、当該マハラノビス距離の値が所定の値を超えたとき、半導体製造装置11が異常動作を生じたと判定する。
Claim (excerpt)：
半導体製造装置の動作を管理する方法であって、前記半導体製造装置の正常動作状態下で少なくとも1つのパラメータについて複数のデータをサンプリングし、サンプリングされたデータ群に基づいてマハラノビス空間を作成し、該マハラノビス空間に基づいて、前記半導体製造装置の動作状態で得られる前記パラメータについての測定値群からマハラノビス距離を算出し、当該マハラノビス距離の値が所定の値を超えたとき、前記半導体製造装置が異常動作を生じたと判定することを含む、半導体製造装置のための管理方法。
Patent cited by the Patent：
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