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J-GLOBAL ID：200903007319197290
無電解めっき法における触媒化方法
Inventor：
Applicant, Patent owner：
,
Agent (1)：
田中 二郎
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994331097
Publication number (International publication number)：1996158057
Application date： Dec. 08, 1994
Publication date： Jun. 18, 1996
Summary：
【要約】【目的】 本発明は、センシダイシング-アクチベーティング法やキャタリスト-アクセレート法に依らず、無電解めっき法においてめっき層、被めっき層の密着強度に関与する触媒金属の捕捉を目的とする。【構成】 非導電性物質の表面に無電解めっき層を形成する際に、触媒の付与及び無電解めっき各工程に先立ち、非導電性物質の表面に少なくともキトサン又はキトサン誘導体を含有してなる処理液を塗布して、表面に親水性被膜を形成し、こうして得られた親水性被膜は、キトサンがパラジウム等の触媒金属を化学的に吸着捕捉し固定化する。その結果、無電解めっき工程において、被めっき材表面に十分な量の活性触媒が担持された状態を得ることができ、その上に密着性のよい無電解めっき層を均一な状態で効率よく形成する。
Claim (excerpt)：
非導電性物質の表面にキトサン又はキトサン誘導体を含有してなる被膜を形成させた後、触媒金属塩溶液で処理して、触媒金属を化学吸着させることを特徴とする無電解めっき法における触媒化方法。
Patent cited by the Patent：
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