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J-GLOBAL ID：200903007327252208

露光方法および装置

Inventor： 山口 弘高 ,  谷口 幸夫 ,  辻川 晋
Applicant, Patent owner： 株式会社 液晶先端技術開発センター
Agent (3)： 牧 哲郎 ,  牧 レイ子 ,  菊谷 公男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003345367
Publication number (International publication number)：2005114797
Application date： Oct. 03, 2003
Publication date： Apr. 28, 2005
Summary：

【課題】ガラス基板のように凹凸量が大きな被露光面であっても高解像度の露光を可能にした露光装置および露光方法を提供する。【解決手段】光源1の光軸上に照明光学系2、マスクステージ3、投影光学系4、基板ステージ5を順番に配置する構成で、マスクステージ3と基板ステージ5にはそれぞれマスクMとガラス基板Pが保持される。そして、光源1から出た光が略長方形に整形されてマスクM上に照射され、マスクステージ3と基板ステージ5が同時に移動しながら一定の露光領域がガラス基板Pに対して相対的に走査され、ガラス基板Pに投影光学系4により結像されたマスクMのパターンを転写する。このとき、露光領域をマスクMに合わせて可変にし、各パターンの露光領域を焦点深度に応じて最大に設定する。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

露光用光を出力する光源と、 この光源の光路に設けられた位相シフトマスクと、 この位相シフトマスクのパターンを被露光基板表面に結像させるための露光光学系と からなる露光装置により露光するに際し、 前記被露光基板表面各部での凹凸の傾きに応じて変位する露光面が前記露光光学系および前記位相シフトマスクにより決定される焦点深度内に入るように露光領域を設定して露光することを特徴とする露光方法。

IPC (2)：

G03F7/20 ,  H01L21/027

FI (3)：

G03F7/20 501 ,  H01L21/30 514C ,  H01L21/30 516B

F-Term (16)：

2H097BA01 ,  2H097BB01 ,  2H097BB03 ,  2H097JA02 ,  2H097LA12 ,  5F046AA25 ,  5F046BA04 ,  5F046BA05 ,  5F046CB17 ,  5F046CC01 ,  5F046CC13 ,  5F046DA05 ,  5F046DA07 ,  5F046DA14 ,  5F046DD03 ,  5F046DD06

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

• 特開8-314112号公報(例えば[0003]欄)