Pat
J-GLOBAL ID:200903007348047280
エリプソメータおよび分光エリプソメータ
Inventor:
,
,
,
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2004127923
Publication number (International publication number):2005308612
Application date: Apr. 23, 2004
Publication date: Nov. 04, 2005
Summary:
【課題】従来のエリプソメータにおける駆動部を無くし、小型で高速かつ高精度な偏光解析装置および分光偏光解析装置を実現する。【解決手段】主軸方向が異なる複数の偏光子を配列した偏光子アレイ1枚と、CCDなどの受光素子アレイとを組み合わせることによって「回転検光子型」の偏光解析装置を構成する。または、主軸方向が異なる複数の波長板を配列した波長板アレイ1枚と、主軸方向が一定の偏光子1枚を重なるように配置し、受光素子アレイと組み合わせることによって「回転位相子型」お偏光解析装置を構成する。これらの偏光解析装置と回折格子などの分散デバイスを組み合わせることによって、小型でシンプルな分光偏光解析装置を実現することが可能となる。【選択図】図12
Claim (excerpt):
主軸方向の異なる複数の偏光子領域からなる偏光子アレイと複数の受光素子からなる受光素子アレイとの2つ光学素子によって構成され、前記の偏光子アレイの各偏光子領域を通過した光をそれぞれ個別に受光することができるように前記の受光素子アレイを配置したことを特徴とする偏光解析装置。
IPC (4):
G01J4/04
, G01J3/447
, G01N21/21
, G01N21/27
FI (4):
G01J4/04 Z
, G01J3/447
, G01N21/21 Z
, G01N21/27 A
F-Term (55):
2F065AA30
, 2F065BB01
, 2F065BB17
, 2F065CC17
, 2F065CC31
, 2F065DD02
, 2F065DD06
, 2F065FF41
, 2F065FF50
, 2F065GG04
, 2F065GG24
, 2F065HH04
, 2F065HH08
, 2F065JJ02
, 2F065JJ03
, 2F065JJ25
, 2F065JJ26
, 2F065LL33
, 2F065LL36
, 2F065LL42
, 2F065QQ25
, 2F065TT08
, 2G020AA03
, 2G020AA04
, 2G020AA05
, 2G020BA02
, 2G020BA18
, 2G020BA20
, 2G020CA15
, 2G020CB23
, 2G020CC02
, 2G020CC29
, 2G020CC63
, 2G020CD06
, 2G020CD15
, 2G020CD24
, 2G059AA02
, 2G059AA05
, 2G059BB10
, 2G059EE02
, 2G059EE05
, 2G059EE12
, 2G059FF01
, 2G059GG01
, 2G059GG04
, 2G059GG10
, 2G059HH01
, 2G059HH02
, 2G059HH03
, 2G059JJ01
, 2G059JJ05
, 2G059JJ11
, 2G059JJ19
, 2G059JJ20
, 2G059KK04
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (4)
-
偏光解析装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-411786
Applicant:株式会社フォトニックラティス
-
偏光解析装置を用いた偏光解析方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-407485
Applicant:株式会社フォトニックラティス
-
3次元周期構造体及びその作製方法並びに膜の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-040736
Applicant:川上彰二郎
-
偏光子とその作製方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-216152
Applicant:川上彰二郎
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