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J-GLOBAL ID:200903007370995354

レーザ描画装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 三浦 邦夫
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1995206197
Publication number (International publication number):1997052387
Application date: Aug. 11, 1995
Publication date: Feb. 25, 1997
Summary:
【要約】【目的】往復運動する走査光学系による往復走査により描画できるレーザ描画装置を提供する。【構成】レーザ光源11から射出されたレーザ光を、主走査部15によって往復走査し、順方向の走査時には描画データに基づいて描画し、逆方向の走査時には描画データを逆方向データに変換して描画するレーザ描画装置。
Claim (excerpt):
レーザ光を往復走査させる走査手段を備え、前記レーザ光の往復走査によって描画すること、を特徴とするレーザ描画装置。
IPC (2):
B41J 2/44 ,  G02B 26/10 104
FI (2):
B41J 3/00 D ,  G02B 26/10 104 Z
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)
  • 特開昭63-070656
  • 特開昭63-070656

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