Pat
J-GLOBAL ID：200903007469823164
膜厚の測定方法
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
山川 政樹
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992088412
Publication number (International publication number)：1993256636
Application date： Mar. 13, 1992
Publication date： Oct. 05, 1993
Summary：
【要約】【目的】 表面に微細な凹凸があるような薄膜でも小角エックス線回折法でその平均膜厚が求められるようにする。【構成】 表面に微細な凹凸のある被測定薄膜2の上にスパッタ法などにより平坦化層3を形成し、この状態の上にエックス線領域の1次波8を照射する。これにより起きる界面5と界面7の回折の干渉により膜厚を測定する。
Claim (excerpt)：
基板上に形成された被測定薄膜を測定する方法において、前記被測定薄膜上に表面が平坦になるように平坦化層を形成し、前記被測定薄膜と平坦化層の合計膜厚を小角エックス線回折法により求め、前記合計膜厚から前記平坦化層の膜厚を減じて前記被測定薄膜の膜厚を求めることを特徴とする膜厚の測定方法。
Patent cited by the Patent：
Return to Previous Page
