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J-GLOBAL ID：200903007508675984

クロムタ-ゲットおよびその製造方法

Inventor： 村田 英夫 ,  谷口 繁
Applicant, Patent owner： 日立金属株式会社
Agent (1)： 大場 充
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995099975
Publication number (International publication number)：1996269700
Application date： Mar. 31, 1995
Publication date： Oct. 15, 1996
Summary：

【要約】【目的】 強度が高くてパーティクルの発生が極力抑制され得る、大型化に適したクロムターゲットおよびその製造方法を提案することである。【構成】 本発明は、薄膜をスパッタリングにより形成するためのクロムタ-ゲットであって、スパッタ面の(110)面のX線回折強度をA、(110)面+(200)面+(211)面の合計のX線回折強度をBとするとき、A/B≦0.6であり再結晶組織を有するクロムタ-ゲットである。好ましくは、抗折強度が500MPa以上、平均結晶粒径が50μm以下の組織を有する。このターゲットはクロム素材に対して、塑性加工温度が1000°C以下の塑性加工を少なくとも1回施し、次いでクロム素材の再結晶温度以上で、かつ1200°C以下の温度で再結晶熱処理を行なうことにより得ることができる。

Claim (excerpt)：

薄膜をスパッタリングにより形成するためのクロムタ-ゲットであって、スパッタ面のX線回折における(110)面の回折強度をA、(110)面+(200)面+(211)面の合計の回折強度をBとするとき、A/B≦0.6であり再結晶組織を有することを特徴とするクロムタ-ゲット。

IPC (7)：

C23C 14/34 ,  C22F 1/11 ,  C23C 14/14 ,  G02F 1/1335 500 ,  G02F 1/1343 ,  G02F 1/136 ,  G11B 5/85

FI (7)：

C23C 14/34 A ,  C22F 1/11 ,  C23C 14/14 D ,  G02F 1/1335 500 ,  G02F 1/1343 ,  G02F 1/136 ,  G11B 5/85 C