Pat

J-GLOBAL ID：200903007512715737

プール水処理装置

Inventor： 河野 孝
Applicant, Patent owner： 住友精密工業株式会社
Agent (1)： 生形 元重 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000281917
Publication number (International publication number)：2002086168
Application date： Sep. 18, 2000
Publication date： Mar. 26, 2002
Summary：

【要約】【課題】 オゾンの使用によりプール水を強力に浄化処理する。プール水の浄化処理で避けられない塩素剤の添加に伴って発生する難分解性の有機塩素化合物を経済的かつ効率的に分解除去する。オゾンの使用に伴う残留オゾンの問題を解決する。【解決手段】 プール31の槽内から抜き出されたプール水30をフィルタ12により濾過した後、塩素剤により殺菌して槽内に返送する。フィルタ12により濾過されたプール水30の一部を取り出し、そのプール水30にオゾン注入器22によりオゾンガスを注入する。オゾンガスが注入されたプール水30を滞留塔24に通し、溶存オゾンにより酸化処理する。オゾン処理後のプール水30の一部をUV照射塔25に送り、そのオゾン水30に紫外線を照射する。

Claim (excerpt)：

プールの槽内からプール水を抜き出し、浄化処理して槽内に返送する循環式のプール水処理装置において、プール水を濾過する手段と、プール水に塩素剤を添加する手段と、プール水にオゾンガスを注入してそのプール水をオゾン処理する手段と、オゾン処理されたプール水に紫外線を照射する手段とを具備することを特徴とするプール水処理装置。

IPC (9)：

C02F 1/78 ZAB ,  C02F 1/32 ,  C02F 1/50 510 ,  C02F 1/50 520 ,  C02F 1/50 531 ,  C02F 1/50 ,  C02F 1/50 560 ,  C02F 1/72 101 ,  C02F 1/76

FI (10)：

C02F 1/78 ZAB ,  C02F 1/32 ,  C02F 1/50 510 A ,  C02F 1/50 520 L ,  C02F 1/50 531 M ,  C02F 1/50 531 R ,  C02F 1/50 560 C ,  C02F 1/50 560 Z ,  C02F 1/72 101 ,  C02F 1/76 A

F-Term (18)：

4D037AA09 ,  4D037AB03 ,  4D037AB14 ,  4D037BA18 ,  4D037CA02 ,  4D037CA11 ,  4D037CA12 ,  4D037CA16 ,  4D050AA10 ,  4D050AB06 ,  4D050AB19 ,  4D050BB02 ,  4D050BB04 ,  4D050BB09 ,  4D050BD06 ,  4D050CA07 ,  4D050CA12 ,  4D050CA15

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (3)

• 特開昭63-258693
  
• 特開平1-148392
  
• 特開平1-299964
  

Cited by examiner (1)

• 特開昭63-258693