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J-GLOBAL ID：200903007531802721

有機物の除去方法

Inventor： 上野 賢一
Applicant, Patent owner： クロリンエンジニアズ株式会社
Agent (1)： 米澤 明 (外7名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991207918
Publication number (International publication number)：1993047730
Application date： Aug. 20, 1991
Publication date： Feb. 26, 1993
Summary：

【要約】【目的】 オゾンによるウエハなどの有機物を除去する速度を高める。【構成】 有機物を除去する基板を液中に浸漬、あるいは表面を水で被覆した状態でオゾン含有気体を供給するとともに、紫外線を照射することによりヒドロキシルラジカルの生成を高めて有機物の酸化分解速度を高める。

Claim (excerpt)：

有機物をオゾンを利用して有機物を除去する方法において、水の存在下においてオゾン含有気体へ紫外線の照射をおこない、ヒドロキシルラジカルが生成した水によって酸化分解することを特徴とする有機物の除去方法。