Pat

J-GLOBAL ID：200903007533592457

レチクル、それを用いた露光装置及び露光方法

Inventor： 太田 和哉
Applicant, Patent owner： 株式会社ニコン
Agent (1)： 渡部 温 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001104438
Publication number (International publication number)：2002299228
Application date： Apr. 03, 2001
Publication date： Oct. 11, 2002
Summary：

【要約】【課題】 基板にガラスを用いても静電チャックを行い得るレチクル及びそれを用いた露光装置を提供する。【解決手段】 本発明に係るレチクルは、EUV露光装置に用いるレチクル2であって、低膨張ガラス基板20と、このガラス基板20の上面に形成された、EUV光を反射するための多層膜MLと、この多層膜上に形成された、露光パタンを有する吸収層ALと、低膨張ガラス基板の下面に形成された導電性の膜CLと、を具備するものである。

Claim (excerpt)：

EUV露光装置に用いるレチクルであって、ガラス基板と、このガラス基板の上面に形成された、EUV光を反射するための多層膜と、この多層膜上に形成された、露光パタンを有するパタニング層と、ガラス基板の下面に形成された導電性の膜と、を具備することを特徴とするレチクル。

IPC (3)：

H01L 21/027 ,  G03F 1/14 ,  G03F 7/20 503

FI (4)：

G03F 1/14 G ,  G03F 7/20 503 ,  H01L 21/30 531 M ,  H01L 21/30 502 P

F-Term (13)：

2H095BA10 ,  2H095BC16 ,  2H095BC24 ,  2H095BC27 ,  2H097AA02 ,  2H097AB09 ,  2H097CA15 ,  2H097GB01 ,  2H097JA02 ,  5F046AA25 ,  5F046CC09 ,  5F046GA12 ,  5F046GD10