Pat

J-GLOBAL ID：200903007533916228

光硬化造形法における積層平板造形法

Inventor： 斉藤 直一郎 ,  早野 誠治 ,  魏 杰
Applicant, Patent owner： シーメット株式会社
Agent (1)： 岡田 英彦 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991348759
Publication number (International publication number)：1993154924
Application date： Dec. 04, 1991
Publication date： Jun. 22, 1993
Summary：

【要約】 (修正有)【目的】 反りを生じずに、設計に忠実な形状の積層平板を造形することのできる光硬化造形法における積層平板造形法を提供する。【構成】 光硬化造形法で積層平板を造形する際に、離隔的に照射することによって未硬化部分を残した層2を形成する工程と、その上部層の硬化の際に前記未硬化部分6を硬化させる工程とを有し、硬化に伴う歪みを相殺しつつ積層された平板を形成する。

Claim (excerpt)：

光硬化造形法で積層平板を造形する際に、離隔的に照射することによって、未硬化部分を残した層を形成する工程と、その上部層の硬化の際に、前記未硬化部分を硬化させる工程とを有し、硬化に伴う歪みを相殺しつつ積層された平板を形成することを特徴とする光硬化造形法における積層平板造形法。

IPC (4)：

B29C 67/00 ,  B29C 35/08 ,  B29K105:24 ,  B29L 7:00