レチクルローダ機構

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：京本直樹 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997279060
Publication number (International publication number)：1999121331
Application date： Oct. 13, 1997
Publication date： Apr. 30, 1999
Summary：

【要約】【課題】縮小投影露光装置におけるレチクルローダ機構において、レチクル16と載置面14aとの間に介在する異物に起因する装填されるレチクル16の光軸に対する傾きを防止する。【解決手段】レチクルステージ14の載置面14aと載置面14aに対応するレチクル16の下面の部分とを拭き清掃する洗浄ユニット1を設け、レチクル16をレチクルステージに装填する前にに付着している異物を除去している。

Claim (excerpt)：

露光装置の鏡筒内にレチクルを搬送しレチクルステージの載置面に前記レチクルを載置する移載機構を備えるレチクルローダ機構において、前記鏡筒内に挿入され前記載置面を拭き清掃するとともに前記鏡筒外に停留して前記移載機構により搬送される前記レチクルの下面の前記載置面に対応する両側部分を拭き清掃する異物除去部をもつワイパ部材を具備する洗浄ユニットを備えることを特徴とするレチクルローダ機構。

IPC (2)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 521

FI (2)：

H01L 21/30 515 F , G03F 7/20 521

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

露光装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-053017 Applicant：富士通株式会社

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