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J-GLOBAL ID:200903007618096092

内視鏡装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 伊藤 進
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2003174001
Publication number (International publication number):2005006856
Application date: Jun. 18, 2003
Publication date: Jan. 13, 2005
Summary:
【課題】1つの固体撮像素子で複数の特定波長領域の光の撮像を行うとともに、強度が大きく異なる複数の特定波長領域の光を、それぞれ適切な明るさの画像として取得し、これらの合成した画像を良好な画像にする。【解決手段】内視鏡2は記憶装置20を搭載している。記憶装置20は、CPU21と不揮発性のメモリ22とから構成されている。メモリ22には、通常光モード時における、R、G、Bの3波長の蓄積時間(電子シャッタ速度)及び特殊光モード(蛍光観察)時におけるEx1、Ex2、Ex3の3波長の蓄積時間(電子シャッタ速度)が格納されている。CCD駆動手段31は、メモリ22に格納された電子シャッタ速度でCCD19の制御を行う。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
電荷を蓄積する事によって被写体像を撮像する撮像素子を有する内視鏡と、 前記被写体に照明光を照射する光源装置と、 前記撮像素子が電荷を蓄積する蓄積時間に関する情報を複数記憶する記憶手段と、 この記憶手段に蓄積されている蓄積時間に関する情報に基づいて前記撮像素子の蓄積時間の制御を行う駆動手段と、 前記撮像素子が撮像した被写体像に基づく信号の信号処理をする信号処理手段と、 を備えた事を特徴とする内視鏡装置。
IPC (5):
A61B1/04 ,  A61B1/00 ,  G01N21/64 ,  G02B23/24 ,  H04N7/18
FI (6):
A61B1/04 372 ,  A61B1/00 300D ,  A61B1/00 300Y ,  G01N21/64 Z ,  G02B23/24 B ,  H04N7/18 M
F-Term (55):
2G043AA03 ,  2G043BA16 ,  2G043EA01 ,  2G043FA01 ,  2G043FA05 ,  2G043FA06 ,  2G043GA08 ,  2G043GB21 ,  2G043HA01 ,  2G043HA05 ,  2G043JA02 ,  2G043KA02 ,  2G043KA05 ,  2G043KA08 ,  2G043LA03 ,  2G043NA06 ,  2G043NA13 ,  2H040BA11 ,  2H040BA23 ,  2H040CA02 ,  2H040CA09 ,  2H040FA02 ,  2H040FA10 ,  2H040FA11 ,  2H040FA12 ,  2H040FA13 ,  2H040GA02 ,  2H040GA10 ,  4C061CC06 ,  4C061FF12 ,  4C061FF40 ,  4C061FF47 ,  4C061HH51 ,  4C061JJ18 ,  4C061LL02 ,  4C061MM01 ,  4C061MM03 ,  4C061NN01 ,  4C061QQ02 ,  4C061QQ04 ,  4C061QQ09 ,  4C061RR02 ,  4C061RR04 ,  4C061RR14 ,  4C061RR17 ,  4C061RR22 ,  4C061RR26 ,  4C061SS04 ,  4C061SS07 ,  4C061SS11 ,  4C061SS13 ,  4C061YY02 ,  4C061YY14 ,  5C054CC07 ,  5C054HA12
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (4)
  • 電子内視鏡装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平9-194195   Applicant:東芝医用システムエンジニアリング株式会社, 株式会社東芝
  • 電子内視鏡システム
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平9-329592   Applicant:旭光学工業株式会社
  • 内視鏡装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願2000-143541   Applicant:オリンパス光学工業株式会社
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