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J-GLOBAL ID：200903007632076835

光触媒性薄膜

Inventor： 福嶋 哲弥 ,  高塩 稔
Applicant, Patent owner： 東陶機器株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001303651
Publication number (International publication number)：2003105262
Application date： Sep. 28, 2001
Publication date： Apr. 09, 2003
Summary：

【要約】【課題】光半導体成分を高充填しても、耐久性の低下しない光触媒性薄膜の形成方法【解決手段】平均一次粒子径5〜20nmの光半導体微粒子が分散溶媒中に均一に分散された光半導体分散液と、テトラアルコキシシランのオリゴマー及び、重量平均分子量(Mw)が1000〜2000であるテトラアルコキシシランの加水分解・合物よりなる珪素アルコキシド1000重量部に対し、平均一次粒径が5〜30nmであるシリカ0〜500重量部、ならびに酸塩化ジルコニウム、硫酸ジルコニル、炭酸ジルコニル、水酸化ジルコニル又はこれらの水和物より選ばれる少なくとも1種のジルコニウム化合物0〜200重量部が含まれるバインダー溶液の二液よりなり、基材表面に、光触媒性薄膜を形成する塗料であって、光半導体分散液の全固形分75〜95重量部に対し、バインダー溶液の全固形分が25〜5重量部となるように調整されている、光触媒性薄膜形成用塗料。

Claim (excerpt)：

平均一次粒子径5〜20nmの光半導体微粒子が分散溶媒中に均一に分散された光半導体成分形成用の光半導体分散液と、テトラアルコキシシランのオリゴマー及び、重量平均分子量(Mw)が1000〜2000であるテトラアルコキシシランの部分加水分解・重縮合物よりなる珪素アルコキシド1000重量部に対し、平均一次粒子径が5〜30nmであるコロイダルシリカ0〜500重量部、ならびに酸塩化ジルコニウム、硫酸ジルコニール、炭酸ジルコニール、水酸化ジルコニール又はこれらの水和物より選ばれる少なくとも1種のジルコニウム化合物0〜200重量部が含まれる光半導体成分固定用のバインダー溶液の二液よりなり、基材表面に、光触媒性薄膜を形成する塗料であって、光半導体分散液の全固形分75〜95重量部に対し、バインダー溶液の全固形分が25〜5重量部となるように調整されている、光触媒性薄膜形成用塗料。

IPC (5)：

C09D183/02 ,  B01J 21/06 ,  B01J 35/02 ,  C03C 17/30 ,  C09D 5/00

FI (5)：

C09D183/02 ,  B01J 21/06 M ,  B01J 35/02 J ,  C03C 17/30 A ,  C09D 5/00 Z

F-Term (38)：

4G059AA01 ,  4G059AC22 ,  4G059EA04 ,  4G059FA05 ,  4G059FA22 ,  4G059FA28 ,  4G059FB05 ,  4G069AA03 ,  4G069AA08 ,  4G069BA04A ,  4G069BA04B ,  4G069BA05A ,  4G069BA05B ,  4G069BA21A ,  4G069BA21B ,  4G069BA48A ,  4G069BD05A ,  4G069BD05B ,  4G069CA10 ,  4G069CA11 ,  4G069CA17 ,  4G069DA06 ,  4G069EA08 ,  4G069FB23 ,  4J038DL021 ,  4J038HA216 ,  4J038HA256 ,  4J038HA296 ,  4J038HA376 ,  4J038KA04 ,  4J038KA06 ,  4J038KA12 ,  4J038KA20 ,  4J038MA10 ,  4J038MA14 ,  4J038NA18 ,  4J038PA19 ,  4J038PC03