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J-GLOBAL ID:200903007656766662

立方晶ゲル粒子の、抗-汚染剤としての、特に化粧料中における使用

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 志賀 正武 (外7名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001173016
Publication number (International publication number):2002053429
Application date: Jun. 07, 2001
Publication date: Feb. 19, 2002
Summary:
【要約】【課題】 気体や重金属等の汚染物質に因る有害な影響を防止し、これらの外的汚染物質からケラチン物質を保護する組成物を提供すること【解決手段】 ケラチン物質への局所的適用のための組成物において、抗-汚染剤としての立方晶ゲル粒子を化粧的に使用すること。ケラチン物質を汚染の有害な影響から保護するために、局所適用組成物を調製するにあたり、立方晶ゲル粒子を使用すること。少なくとも2つの両親媒性化合物の混合物より形成され、当該両親媒性化合物のうちの一方が、水の存在下にラメラ相を形成することができ、他方が、水の存在下に逆ヘキソゴナル相を形成することができる立方晶ゲル粒子を使用すること。
Claim (excerpt):
ケラチン物質への局所的適用のための組成物における、抗-汚染剤としての立方晶ゲル粒子の化粧的使用。
IPC (5):
A61K 7/00 ,  A61K 7/02 ,  A61K 7/06 ,  A61K 7/40 ,  B01F 17/00
FI (8):
A61K 7/00 R ,  A61K 7/00 C ,  A61K 7/00 E ,  A61K 7/00 J ,  A61K 7/02 Z ,  A61K 7/06 ,  A61K 7/40 ,  B01F 17/00
F-Term (65):
4C083AA111 ,  4C083AA112 ,  4C083AC022 ,  4C083AC111 ,  4C083AC112 ,  4C083AC122 ,  4C083AC352 ,  4C083AC422 ,  4C083AC442 ,  4C083AC472 ,  4C083AC542 ,  4C083AC661 ,  4C083AC662 ,  4C083AC901 ,  4C083AC902 ,  4C083AD022 ,  4C083AD152 ,  4C083AD172 ,  4C083AD282 ,  4C083BB04 ,  4C083BB13 ,  4C083CC04 ,  4C083CC05 ,  4C083CC31 ,  4C083DD31 ,  4C083DD32 ,  4C083DD44 ,  4C083EE12 ,  4C083EE13 ,  4C083EE29 ,  4D077AA09 ,  4D077AB11 ,  4D077AC01 ,  4D077AC05 ,  4D077BA07 ,  4D077DC02X ,  4D077DC02Y ,  4D077DC10X ,  4D077DC10Y ,  4D077DC23X ,  4D077DC23Y ,  4D077DC26X ,  4D077DC26Y ,  4D077DC42X ,  4D077DC42Y ,  4D077DC50X ,  4D077DC50Y ,  4D077DC54X ,  4D077DC54Y ,  4D077DD32X ,  4D077DD32Y ,  4D077DD35X ,  4D077DD35Y ,  4D077DD62X ,  4D077DD62Y ,  4D077DE02X ,  4D077DE02Y ,  4D077DE07X ,  4D077DE07Y ,  4D077DE08X ,  4D077DE08Y ,  4D077DE09X ,  4D077DE09Y ,  4D077DE10X ,  4D077DE10Y
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)

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