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J-GLOBAL ID:200903007660911839
半導体発光素子
Inventor:
,
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
杉村 興作 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001343055
Publication number (International publication number):2002261324
Application date: Nov. 08, 2001
Publication date: Sep. 13, 2002
Summary:
【要約】【課題】任意の色度の光を生成することのできるLED、特に三原色以上の白色LEDとして好適に使用することが可能な、新規な半導体発光素子を提供する。【解決手段】半導体発光素子10を構成する下地層2を、X線ロッキングカーブにおける半値幅が90秒以下の高結晶Al含有窒化物半導体から構成する。発光層5は、Al、Ga、及びInの少なくとも一種を含み、希土類元素及び遷移金属元素から選ばれる少なくとも一種の元素を添加元素として含有した窒化物半導体から構成する。
Claim (excerpt):
基板と、この基板上に形成された、少なくともAlを含み、X線ロッキングカーブにおける半値幅が90秒以下である第1の窒化物半導体からなる下地層と、この下地層上に形成された、Al、Ga、及びInの少なくとも一つを含む第2の窒化物半導体からなる第1の導電層と、この第1の導電層上に形成された、Al、Ga、及びInの少なくとも一つを含む第3の窒化物半導体からなる第1のクラッド層と、この第1のクラッド層上に形成された、Al、Ga、及びInの少なくとも一つを含み、希土類元素及び遷移金属元素から選ばれる少なくとも一種の元素を添加元素として含む第4の窒化物半導体からなる発光層と、この発光層上に形成された、Al、Ga、及びInの少なくとも一つを含む第5の窒化物半導体からなる第2のクラッド層と、この第2のクラッド層上に形成された、Al、Ga、及びInの少なくとも一つを含む第6の窒化物半導体からなる第2の導電層と、を具えることを特徴とする、半導体発光素子。
F-Term (8):
5F041AA11
, 5F041CA34
, 5F041CA40
, 5F041CA46
, 5F041CA50
, 5F041CA57
, 5F041CA65
, 5F041CA66
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (12)
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希土類元素でドーピングされたワイドギャップ半導体により形成した可視光線発光デバイス
Gazette classification:公表公報
Application number:特願2000-614514
Applicant:ユニバーシティーオブシンシナティ
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3族窒化物半導体発光素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-199826
Applicant:豊田合成株式会社, 赤崎勇, 天野浩
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半導体発光素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-098824
Applicant:シャープ株式会社
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半導体発光素子およびその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-258014
Applicant:ソニー株式会社
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GaN堆積ウエーハ及び光半導体装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-342456
Applicant:富士通株式会社
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3-5族化合物半導体の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-307283
Applicant:住友化学工業株式会社
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半導体発光素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-288090
Applicant:シャープ株式会社
-
3族窒化物半導体発光素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-188370
Applicant:豊田合成株式会社
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窒化物半導体発光素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-328631
Applicant:日亜化学工業株式会社
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窒化物半導体レーザ素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-256452
Applicant:日亜化学工業株式会社
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窒化ガリウム半導体層を有する半導体装置及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-320498
Applicant:サンケン電気株式会社
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窒化物半導体の成長方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-237501
Applicant:日亜化学工業株式会社
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